Der Studierende besitzt ein solides Wissen über vakuumgestützte Technologien zur Herstellung von ultradünnen Schichten, Schichtsystemen und speziellen Schichtstrukturen. Er erlangt vertiefte Kenntnisse über die notwendigen Prozessbedingungen sowie über die atomaren Vorgänge bei der Dampfabscheidung und Schicht- bzw. Strukturausbildung. Der Studierende ist dadurch befähigt, Zusammenhänge zwischen Prozessbedingungen und Schichteigenschaften herzustellen und auf praxisnahe Problemstellungen anzuwenden.

Darüber hinaus erlangt der Studierende Kenntnisse über plasmachemische Prozesse und deren Einsatzgebiete im Hochtechnologie- und Life-Science-Bereich. Er weist Wissen über die gewollte und ungewollte Erzeugung von Partikeln in Plasmen auf, wie diese unterbunden oder gezielt eingestellt werden kann und in welchen Anwendungsbereichen dies von Relevanz ist. Der Studierende erlangt vertiefte Kenntnisse in der Ermittlung und gezielten Anpassung von Plasmakenngrößen mittels plasmadiagnostischer Methoden und der damit verbundenen Optimierung von Plasmaquellen und prozessen. Dadurch ist er befähigt, an der Umsetzung neuer plasmagestützter Verfahren und Applikationen im Hochtechnologiebereich mitzuwirken. Der Studierende kann ferner für Problemstellungen aus unterschiedlichen relevanten Fachgebieten eigenständig Lösungswege entwickeln, Experimente durchführen und qualifiziert auswerten.