PTI05590 – Optische Technologien in der Halbleiterproduktion

Modul
Optische Technologien in der Halbleiterproduktion
Optical techniques in semiconductor technology
Modulnummer
PTI05590
Version: 1
Fakultät
Physikalische Technik / Informatik
Niveau
Master
Dauer
1 Semester
Turnus
Keine Angabe
Modulverantwortliche/-r

Prof. Dr. Peter Hartmann
Peter.Hartmann(at)fh-zwickau.de
Dozent/-in(nen)

Prof. Dr. Peter Hartmann
Peter.Hartmann(at)fh-zwickau.de
Lehrsprache(n)

Deutsch
in "Optische Technologien in der Halbleiterproduktion "
ECTS-Credits

5.00 Credits

Workload

150 Stunden

Lehrveranstaltungen

4.00 SWS (2.00 SWS Praktikum | 2.00 SWS Vorlesung mit integr. Übung / seminaristische Vorlesung)
Selbststudienzeit

90.00 Stunden

Prüfungsvorleistung(en)

Praktikumstestat
in "Optische Technologien in der Halbleiterproduktion "
Prüfungsleistung(en)

schriftliche Prüfungsleistung
Modulprüfung | Prüfungsdauer: 90 min | Wichtung: 100% | nicht kompensierbar
in "Optische Technologien in der Halbleiterproduktion "
Medienform
Keine Angabe
Lehrinhalte/Gliederung

Vorlesung/Übung

(1) Ausgewählte Grundlagen der Anwendung von Lasern und klassischen Lichtquellen in der Praxis

Aufbau von industriellen Lasersystemen, Eigenschaften der Laserstrahlung, Strahlformung und Strahlabbildung, Quecksilberdampflampen

(2) Ausgewählte Grundlagen der optischen Abbildung

Abbildungsfehler, Zernike-Polynome, Matrixmethode

(3) Optische Bauelemente und Baugruppen in der Lithografie

Parabolspiegel, i-line Filter, Image Shifter, Axicon, Optical Mixer, Beamshaper, Flys eye, Zoom Linsen, Spiegel, Kondensor Linsen; Reticle, optische Messsysteme im Stepper und Scanner

(4) Der lithographische Prozess

Festlegung der reproduzierbaren Bildebene, Optische Weglänge, Einfluss von Luftdruck, Luftfeuchte und Temperatur, Berechnung der Lagefehler auf dem Wafer durch Stichprobenmessung und statistischen Methoden, Overlay Korrektur Model 8 Parameter für Stepper und Scanner

(5) Ausblick auf neue Technologien

DSA (Direk self assebly); EUV; Imprint; Immersion

 

Praktikum und Übung

Abbildungsfehler; optische Fourier-Transformation; numerische Berechnung von optischen Systemen; Prozessmesstechnik auf Basis von LabView, Adaptive Optik, Wellenfrontanalyse
Qualifikationsziele

Ziel der Lehrveranstaltung ist der Erwerb von praxisorientiertem Wissen über den Einsatz von optischen Technologien und komplexen optischen Systemen in der industriellen Halbleiterproduktion.

Ausgehend von allgemeinen Grundlagen und Verfahren der Optik und Lasertechnik sollen die Studierenden in die Lage versetzt werden optische Verfahren die unterschiedlichen Techniken der Lithographie zu charakterisieren und zu bewerten.

In praktischen Übungen, durchgeführt in kleinen Gruppen, erwerben die Studenten experimentelle Fertigkeiten und Erfahrungen beim Umgang mit optischen Aufbauten und lernen ausgewählte Software- und optische Analysetechniken und mathematische Modelle kennen.
Besondere Zulassungsvoraussetzung

Kenntnis der allgemeinen Grundlagen der klassischen Optik, Kenntnisse zum Aufbau und der Funktion von Lasern, Grundkenntnisse der Technologien in der industriellen Halbleiterproduktion
Empfohlene Voraussetzungen
Keine Angabe
Fortsetzungsmöglichkeiten
Keine Angabe
Literatur

Harry J. Levinson: Principles of Lithography. 3. Auflage. SPIE Press, 2011, ISBN 978-0819483249
Hinweise
Keine Angabe
Zuordnung zum Curriculum

212 Nanotechnologie - Master 2017 Vollzeit

212 Nanotechnologie - Master 2017 Teilzeit

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