ELT04080 – Mikrosystemtechnik (MST/MEMS)

Modul
Mikrosystemtechnik (MST/MEMS)
MEMS-Technology (Micro Electro Mechanical Systems)
Modulnummer
ELT04080
Version: 1
Fakultät
Elektrotechnik
Niveau
Bachelor/Diplom
Dauer
1 Semester
Turnus
Sommersemester
Modulverantwortliche/-r

Prof. Dr. Robert Täschner
Robert.Taeschner(at)fh-zwickau.de

Dozent/-in(nen)

Prof. Dr. Jürgen Grimm
J.Grimm(at)fh-zwickau.de
Dozent/-in in: "Mikrosystemtechnik"

Prof. Dr. Robert Täschner
Robert.Taeschner(at)fh-zwickau.de
Dozent/-in in: "Mikrosystemtechnik"

Lehrsprache(n)

Deutsch - 80.00%
in "Mikrosystemtechnik"

Englisch - 20.00%
in "Mikrosystemtechnik"

ECTS-Credits

6.00 Credits

Workload

180 Stunden

Lehrveranstaltungen

5.00 SWS (1.00 SWS Praktikum | 4.00 SWS Vorlesung mit integr. Übung / seminaristische Vorlesung)

Selbststudienzeit

105.00 Stunden
25.00 Stunden Recherchearbeit - Mikrosystemtechnik
80.00 Stunden Selbststudium - Mikrosystemtechnik

Prüfungsvorleistung(en)

Praktikum (Protokoll, Testat)
in "Mikrosystemtechnik"

Prüfungsleistung(en)

schriftliche Prüfungsleistung
Modulprüfung | Prüfungsdauer: 90 min | Wichtung: 100%
in "Mikrosystemtechnik"

Medienform
Keine Angabe
Lehrinhalte/Gliederung

Bedeutung und Inhalte der Mikrosystemtechnik; Werkstoffe der Mikrosystemtechnik, Silizium, Technologie: Reinraum/Reinraumtechnik, Notwendigkeit der Reinraumtechnik, Klassifizierung von Reinräumen, Aufbau von Reinräumen, Partikelkontamination; Einführung in technologische Verfahren in der Mikrosystemtechnik bzw. Halbleiterindustrie: Lithographie, Dünnschichttechnik, Dotierung, Ätztechnik, LIGA, Aufbau- und Verbindungstechnik Anforderungen an Mikrosysteme, messtechnische Eigenschaften von Sensor- und Mikrosystemen, Differentialstruktur bei der Messwertaufnahme, Anwendungen der Mikrosystemtechnik: Grundsätzliches Drucksensoren mit piezoresistiver Signalwandlung, Beschleunigungssensorik: Prinzip der Beschleunigungsmessung, Formen der Signalwandlung, Ausführungsformen, Herstellung von Druck- und Beschleunigungssensoren

Bedeutung und Inhalte der Mikrosystemtechnik; Werkstoffe der Mikrosystemtechnik, Silizium, Technologie: Reinraum/Reinraumtechnik, Notwendigkeit der Reinraumtechnik, Klassifizierung von Reinräumen, Aufbau von Reinräumen, Partikelkontamination; Einführung in technologische Verfahren in der Mikrosystemtechnik bzw. Halbleiterindustrie: Lithographie, Dünnschichttechnik, Dotierung, Ätztechnik, LIGA, Aufbau- und Verbindungstechnik Anforderungen an Mikrosysteme, messtechnische Eigenschaften von Sensor- und Mikrosystemen, Differentialstruktur bei der Messwertaufnahme, Anwendungen der Mikrosystemtechnik: Grundsätzliches Drucksensoren mit piezoresistiver Signalwandlung, Beschleunigungssensorik: Prinzip der Beschleunigungsmessung, Formen der Signalwandlung, Ausführungsformen, Herstellung von Druck- und Beschleunigungssensoren

Qualifikationsziele

Die Studierenden erlangen wissenschaftlich-technische Grundkenntnisse auf dem Gebiet der Mikrosystemtechnik zur späteren selbstständigen Tätigkeit im Berufsleben. Sie besitzen Kenntnisse über die Herstellungsverfahren von Mikrosystemen und den dazugehörigen Basistechnologien wie auch über deren Anwendungsfelder von Mikrosystemen. Die Kenntnisse werden an folgenden Beispielen vertieft: Drucksensoren (Si-Volumenmikromechanik), Beschleunigungs- und Drehratensensoren (Si-Oberflächenmikromechanik) und thermischen Beschleunigungssensoren (CMOS-Technologie). Die Lehrinhalte werden durch Übungsaufgaben, Verständniskontrollen und anwendungsorientierte Prozessfragestellungen überprüft und gefestigt.

Die Studierenden erlangen wissenschaftlich-technische Grundkenntnisse auf dem Gebiet der Mikrotechnologie zur späteren selbstständigen Tätigkeit im Berufsleben. Sie besitzen Kenntnisse über die Möglichkeiten der Mikrosystemtechnik und der dazugehörigen Basistechnologien wie auch über deren Anwendungsfelder. Die Kenntnisse werden an folgenden Beispielen vertieft: Drucksensoren (Si-Volumenmikromechanik), Beschleunigungs- und Drehratensensoren (Si-Oberflächenmikromechanik) und thermischen Beschleunigungssensoren (CMOS-Technologie). Die Lehrinhalte werden durch Übungsaufgaben, Verständniskontrollen und anwendungsorientierte Prozessfragestellungen überprüft und gefestigt.

Besondere Zulassungsvoraussetzung

-

keine

Empfohlene Voraussetzungen

-

Grundwissen Elektrotechnik, Mathematik und Physik

Fortsetzungsmöglichkeiten

ELT433 Aufbau- und Verbindungstechnik + MST-Fertigung

ELT433 Aufbau- und Verbindungstechnik + MST-Fertigung im Wintersemester

Literatur

Literatur zum Selbststudium:

Mikrosystemtechnik. Konzepte und Anwendungen,
Ulrich Mescheder, 2. Auflage, VerlagSpringer-Verlag, 2013, ISBN3322848787, 292 Seiten

Werkstoffe der Mikrotechnik: Lehrbuch für Ingenieure,
Joachim Frühauf mit 89 Tabellen

MEMS and MOEMS Technology and Applications
Band 85 von Press Monographs Band 85 von SPIE
Autor P. Rai-Choudhury

Ausgabe illustriert
Verlag SPIE Press, 2000, ISBN0819437166, 978081943716,
520 Seiten

Hinweise
Keine Angabe