PTI05590 – Optical techniques in semiconductor technology

Module
Optical techniques in semiconductor technology
Optische Technologien in der Halbleiterproduktion
Module number
PTI05590
Version: 1
Faculty
Physikalische Technik / Informatik
Level
Master
Duration
1 Semester
Semester
No information
Module supervisor

Prof. Dr. Peter Hartmann
Peter.Hartmann(at)fh-zwickau.de
Lecturer(s)

Prof. Dr. Peter Hartmann
Peter.Hartmann(at)fh-zwickau.de
Course language(s)

German
in "Optische Technologien in der Halbleiterproduktion "
ECTS credits

5.00 credits

Workload

150 hours

Courses

4.00 SCH (2.00 SCH Internship | 2.00 SCH Lecture with integrated exercise / seminar-lecture)
Self-study time

90.00 hours

Pre-examination(s)

Praktikumstestat
in "Optische Technologien in der Halbleiterproduktion "
Examination(s)

schriftliche Prüfungsleistung
Module examination | Examination time: 90 min | Weighting: 100% | not to be compensated
in "Optische Technologien in der Halbleiterproduktion "
Media type
No information
Instruction content/structure

Vorlesung/Übung

(1) Ausgewählte Grundlagen der Anwendung von Lasern und klassischen Lichtquellen in der Praxis

Aufbau von industriellen Lasersystemen, Eigenschaften der Laserstrahlung, Strahlformung und Strahlabbildung, Quecksilberdampflampen

(2) Ausgewählte Grundlagen der optischen Abbildung

Abbildungsfehler, Zernike-Polynome, Matrixmethode

(3) Optische Bauelemente und Baugruppen in der Lithografie

Parabolspiegel, i-line Filter, Image Shifter, Axicon, Optical Mixer, Beamshaper, Flys eye, Zoom Linsen, Spiegel, Kondensor Linsen; Reticle, optische Messsysteme im Stepper und Scanner

(4) Der lithographische Prozess

Festlegung der reproduzierbaren Bildebene, Optische Weglänge, Einfluss von Luftdruck, Luftfeuchte und Temperatur, Berechnung der Lagefehler auf dem Wafer durch Stichprobenmessung und statistischen Methoden, Overlay Korrektur Model 8 Parameter für Stepper und Scanner

(5) Ausblick auf neue Technologien

DSA (Direk self assebly); EUV; Imprint; Immersion

 

Praktikum und Übung

Abbildungsfehler; optische Fourier-Transformation; numerische Berechnung von optischen Systemen; Prozessmesstechnik auf Basis von LabView, Adaptive Optik, Wellenfrontanalyse
Qualification objectives

Ziel der Lehrveranstaltung ist der Erwerb von praxisorientiertem Wissen über den Einsatz von optischen Technologien und komplexen optischen Systemen in der industriellen Halbleiterproduktion.

Ausgehend von allgemeinen Grundlagen und Verfahren der Optik und Lasertechnik sollen die Studierenden in die Lage versetzt werden optische Verfahren die unterschiedlichen Techniken der Lithographie zu charakterisieren und zu bewerten.

In praktischen Übungen, durchgeführt in kleinen Gruppen, erwerben die Studenten experimentelle Fertigkeiten und Erfahrungen beim Umgang mit optischen Aufbauten und lernen ausgewählte Software- und optische Analysetechniken und mathematische Modelle kennen.
Special admission requirements

Kenntnis der allgemeinen Grundlagen der klassischen Optik, Kenntnisse zum Aufbau und der Funktion von Lasern, Grundkenntnisse der Technologien in der industriellen Halbleiterproduktion
Recommended prerequisites
No information
Continuation options
No information
Literature

Harry J. Levinson: Principles of Lithography. 3. Auflage. SPIE Press, 2011, ISBN 978-0819483249
Notes
No information
Assignment to curriculum

212 Nanotechnologie - Master 2017 Vollzeit

212 Nanotechnologie - Master 2017 Teilzeit

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